Simulatorer og trenningsutstyr
L'Istituto Italiano di Tecnologia necessita della fornitura di un sistema per la rimozione ionica reattiva assistita da plasma accoppiato induttivamente (Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching, ICP-RIE) per un periodo di 12 mesi, con un valore massimo totale stimato di 680.000 EUR. L'aggiudicazione avverrà in base al criterio dell'offerta economicamente più vantaggiosa, individuata sulla base del miglior rapporto qualità/prezzo, ai sensi dell'art. 108, co. 1 (OEPV) del D.Lgs. 36/2023.
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- Kontakt telefon
- 01028961
- Kontakt e-post
- tenders@iit.it
- Adresse
- Via Morego, 30, 16163 Genova
Fornitura di un sistema per la rimozione ionica reattiva assistita da plasma accoppiato induttivamente (Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching, ICP-RIE)
Kvalifikasjonskrav
Tildelingskriterier
Beskrivelse
Criterio dell’offerta economicamente più vantaggiosa individuata sulla base del miglior rapporto qualità prezzo, ai sensi dell’art. 108, co. 1 (OEPV) del D.Lgs. 36/2023.
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- Tittel
- Gara a procedura aperta ai sensi dell’art. 71 del D.Lgs. 36/2023 per la fornitura di un sistema per la rimozione ionica reattiva assistita da plasma accoppiato induttivamente (Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching, ICP-RIE)
- Tilleggskoder
- Lokasjon
- Estimert verdi
- 680 000,00 €
- Varighet
- 12 måneder
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