Brief

Simulatorer og trenningsutstyr

L'Istituto Italiano di Tecnologia necessita della fornitura di un sistema per la rimozione ionica reattiva assistita da plasma accoppiato induttivamente (Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching, ICP-RIE) per un periodo di 12 mesi, con un valore massimo totale stimato di 680.000 EUR. L'aggiudicazione avverrà in base al criterio dell'offerta economicamente più vantaggiosa, individuata sulla base del miglior rapporto qualità/prezzo, ai sensi dell'art. 108, co. 1 (OEPV) del D.Lgs. 36/2023.

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Om anbudet

    Fornitura di un sistema per la rimozione ionica reattiva assistita da plasma accoppiato induttivamente (Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching, ICP-RIE)

    Kontakt telefon
    01028961
    Kontakt e-post
    tenders@iit.it
    Adresse
    Via Morego, 30, 16163 Genova

Tildelingskriterier

    Beskrivelse

    Criterio dell’offerta economicamente più vantaggiosa individuata sulla base del miglior rapporto qualità prezzo, ai sensi dell’art. 108, co. 1 (OEPV) del D.Lgs. 36/2023.

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Tittel
Gara a procedura aperta ai sensi dell’art. 71 del D.Lgs. 36/2023 per la fornitura di un sistema per la rimozione ionica reattiva assistita da plasma accoppiato induttivamente (Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching, ICP-RIE)
Tilleggskoder

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Lokasjon
Estimert verdi
680 000,00 €
Varighet
12 måneder

Tidslinje

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