Brief

El Rectorado de la Universitat Politècnica de València necesita el suministro, instalación y puesta en funcionamiento de un equipo de litografía por haz de electrones (Electron Beam Lithography tool up to 8-inch wafers) y un equipo SEM (Scanning Electron Microscope) para la Pilot Line de la UPV, con un valor máximo total de 4.242.784 EUR. Estos equipos son esenciales para la investigación y desarrollo en la línea piloto de la UPV, con el fin de mejorar las líneas piloto avanzadas existentes y desarrollar nuevas en toda la Unión, permitiendo el desarrollo y despliegue de tecnologías de semiconductores de vanguardia y de próxima generación. El equipo de litografía por haz de electrones expondrá patrones con resolución nanométrica para nanofabricación, mientras que el SEM permitirá la inspección de superficies con resolución nanométrica para metrología, inspección y validación de procesos y control de calidad. La idoneidad del equipamiento radica en su capacidad conjunta para cubrir los requisitos de patronaje y metrología dedicados necesarios para la fabricación en línea piloto de circuitos fotónicos integrados híbridos. Los criterios de adjudicación se basan en el precio (66%), la estación avanzada de pre-alineamiento (10%), la estación de validación de recetas de proceso (emulador) (10%), el generador de escaneo con corrección de distorsión en tiempo real (6%), la detección automática de altura y corrección del plano focal (4%) y el módulo de rotación e inclinación (tilt) para inspección (4%).

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Om anbudet

    La contratación objeto del presente expediente se hace necesaria a fin de llevar a cabo la labor de investigación y desarrollo para la Pilot Line de la UPV, con el objetivo de mejorar las líneas piloto avanzadas existentes y desarrollar nuevas en toda la Unión, para permitir el desarrollo y el despliegue de tecnologías de semiconductores de vanguardia y tecnologías de semiconductores de próxima generación. A tal efecto, resulta necesario proceder a la adquisición, entre otros, de los siguientes equipos: 4 • UPV04 - Electron beam lithography tool up to 8-inch wafers: Equipo de litografía por haz de electrones que expone patrones en resistencias sensibles mediante un haz de electrones enfocado y escaneado. Escribe características con resolución nanométrica según diseño en archivo digital. Dedicado a patronado de nanofabricación, especialmente para máscaras y estructuras en fotónica, semiconductores y nanotecnología. • UPV13 – SEM: Equipo de inspección de superficies mediante un haz de electrones enfocado que entrega imágenes de resolución nanométrica. Permite obtener información morfológica y de contraste superficial, así como contraste asociado a diferencias de composición o número atómico, en función de los detectores y modos de imagen disponibles. Dedicado a metrología, inspección y validación de proceso y control de calidad. La idoneidad del equipamiento se fundamenta en su capacidad para cubrir de forma conjunta los requisitos de patronaje y metrología dedicada necesarios para la fabricación en línea piloto de circuitos fotónicos integrados híbridos. Esta capacidad permite coordinar la definición de parámetros de exposición y puntos de interés para metrología posterior, integrar la inspección SEM externa post-proceso y asegurar la trazabilidad y coherencia de los datos generados durante el flujo de fabricación.

    Kontakt navn
    Rectorado de la Universitat Politècnica de València
    Kontakt telefon
    963877406
    Kontakt e-post
    contratacion@upv.es

Kvalifikasjonskrav

    Cifra anual de negocio

Tildelingskriterier

    Beskrivelse

    DETECCIÓN AUTOMÁTICA DE ALTURA Y CORRECCIÓN DEL PLANO FOCAL.

    Beskrivelse

    ESTACIÓN AVANZADA DE PRE-ALINEAMIENTO (PRE-ALIGNMENT STATION).

    Beskrivelse

    ESTACIÓN DE VALIDACIÓN DE RECETAS DE PROCESO (EMULADOR).

    Beskrivelse

    GENERADOR DE ESCANEO CON CORRECCIÓN DE DISTORSIÓN EN TIEMPO REAL.

    Beskrivelse

    MÓDULO DE ROTACIÓN E INCLINACIÓN (TILT) PARA INSPECCIÓN.

    Beskrivelse

    OFERTA ECONÓMICA: PRECIO.

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Tittel
Suministro, instalación y puesta en funcionamiento de un equipo Electron Beam Lithography tool up to 8-inch wafers (UPV04) y un equipo SEM (UPV13) para la Pilot Line de la UPV
Tilleggskoder

Ingen tilleggskoder fra innkjøper …

Estimert verdi
4 242 784,00 €

Tidslinje

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